PVD功能性涂层-磁控溅射镀金薄膜设备
应用领域
1. 黄金（Gold）是化学元素金（Au）的单质形式，是一种软的，金黄色的，抗腐蚀的贵金属。金是较稀有、较珍贵和极被人看重的金属之一。
1.1 它在室温下不会在空气中氧化，因此在正常条件下保持非常稳定，并且其电导率恒定。它是精加工中最常见的贵金属之一。
1.2 金具有耐腐蚀性，因此可以很好地用于连接器插针和电气开关触点。
1.3 镀金技术广泛用于各种主要行业的零部件中：
医疗用途：人体植入物
能源：氢燃料电池双极板
半导体：微电子芯片
航空航天与国防
电信通讯等
设计优势
ROYAL永容团队一直追求的基本设计理念：稳定性，灵活性，高效性
1.节能：设计紧凑，采用分子泵
2.采用平面溅射阴极，靶利用率高达40％
3.溅射金膜的厚度可控，均匀性误差小
4.一键式操作系统，人性化程度高
PVD磁控溅射镀金技术
1. 当在玻璃，金属合金等基材镀真金时，绑定层对于增强基材和金膜的附着力至关重要。 永容科技根据不同的应用开发了一系列成熟的镀膜工艺，可为我们的客户提供专业建议。
2. 对于大多数应用，预期粗糙度）<40Å。 对于某些扫描探针应用，可能需要较低的粗糙度，通常为1.5〜4 nm。
3. 镀金膜层纯度： 取决于所用的PVD工艺，如镀膜工作真空值等, 金靶材的纯度（通常超过99.99％）
请与我们联系以获取更多信息，我们随时与您交流并分享经验和信息。
技术参数：
型号：RTSP800
应用技术：直流溅射+离子源（可选）
设备材质：不锈钢
设备腔体尺寸：Φ800* H800mm
腔室类型：垂直气缸，1门
转架系统：行星体公自转，公转
镀膜材料：金，铝，银，铜，铬，不锈钢，镍，钛
阴极：平面溅射阴极， 可选常规电弧阴极（根据涂覆工艺要求）
MFC： 2~4/5路
程序操控系统：PLC（可编程逻辑控制器）+ IPC
抽真空系统： SV300B – 1台（莱宝）300m³/ hr
WAU501罗茨泵– 1台，490m³/ hr
维持泵– 1台，每小时60m³
涡轮分子泵：– 1台，3500L / S
电源：
偏压电源：1 * 24 KW
脉冲磁控直流溅射功率：12KW
线性离子源：5KW
安全系统：多种安全联锁装置，以保护操作员和设备
冷却循环：冷却水
加热：加热器，9KW
工作环境：电力供应 380V/3相/ 50HZ
占地面积：L3200 * W2600 * H2000mm
总重量：4.0吨
循环时间：30〜40分钟（取决于基材材料，基材几何形状和工作环境条件）
最大功率（估计）：50KW
平均耗电量（估计）：20KW
