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RT1200-DPC- 陶瓷基板磁控溅射镀铜设备

RT1200-DPC- 陶瓷基板磁控溅射镀铜设备

2025-03-06

祝贺永容科技再次成功交付2台DPC 镀膜设备

DPC工艺-直接镀铜是一种先进的镀膜技术,应用于LED,半导体,电子行业.一个典型的应用是陶瓷散热基板.通过PVD真空溅射技术在氧化铝(Al2O3),AlN基板上沉积铜导电膜,与传统制造方法:DBC LTCC HTCC相比,生产成本低得多.

上海永容光电科技有限公司技术团队与我们的客户合作,于2016年成功开发了采用PVD溅射技术镀铜的DPC工艺.

研发历程:

1. 2016年8月,我们收到客户咨询并开始涂层工艺的研发

2. 2017年4月,机器成功安装在客户现场.

3. 2018年,我们改进了设计和结构,DPC1215+型号,2018年底交付客户2台


最新的公司案例 RT1200-DPC- 陶瓷基板磁控溅射镀铜设备  0 最新的公司案例 RT1200-DPC- 陶瓷基板磁控溅射镀铜设备  1


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设备型号:RT1200-DPC

技术:PVD+PECVD

地点:中国

应用:陶瓷(Al3O2,AlN),玻璃和硅Si基板,

HBLED

太阳能聚光电池基板

功率半导体封装,包括汽车电机控制

混合动力和电动汽车电源管理电子产品

射频封装

微波设备

如果您想了解有关技术和机器的更多信息,请联系我们.

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RT1200-DPC- 陶瓷基板磁控溅射镀铜设备

RT1200-DPC- 陶瓷基板磁控溅射镀铜设备

2025-03-06

祝贺永容科技再次成功交付2台DPC 镀膜设备

DPC工艺-直接镀铜是一种先进的镀膜技术,应用于LED,半导体,电子行业.一个典型的应用是陶瓷散热基板.通过PVD真空溅射技术在氧化铝(Al2O3),AlN基板上沉积铜导电膜,与传统制造方法:DBC LTCC HTCC相比,生产成本低得多.

上海永容光电科技有限公司技术团队与我们的客户合作,于2016年成功开发了采用PVD溅射技术镀铜的DPC工艺.

研发历程:

1. 2016年8月,我们收到客户咨询并开始涂层工艺的研发

2. 2017年4月,机器成功安装在客户现场.

3. 2018年,我们改进了设计和结构,DPC1215+型号,2018年底交付客户2台


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设备型号:RT1200-DPC

技术:PVD+PECVD

地点:中国

应用:陶瓷(Al3O2,AlN),玻璃和硅Si基板,

HBLED

太阳能聚光电池基板

功率半导体封装,包括汽车电机控制

混合动力和电动汽车电源管理电子产品

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