磁控溅射镀银设备，Ag 银PVD镀膜机
磁控溅射镀银是PVD镀膜的一种方式（此外，还可以用 电阻蒸发的方式） 利用DC直流磁控溅射沉积原理可以在基材上获得纳米薄膜。
除镀银外，还可溅射金、铜、铝、铬、镍、铝等。 用于导电膜或高端装饰应用。
与传统的湿法电镀相比，PVD电镀工艺产生了更明亮、均匀性更好, 膜层更纯的薄膜。
因此，它广泛应用于装饰和电子产品行业。 基材有多种：塑料、金属、陶瓷、玻璃、不锈钢等。
作为一种先进的涂层技术，可以大幅度降低生产成本。
永容科技设计的 RTSP1250镀银设备，是具有产能高，设备运行稳定， 配置合理，性价比高的一款机型。 我们不仅为您提供镀膜设备，更致力于与您共同开发新的应用领域，探讨新的镀膜工艺。
技术参数：
型号：RTSP1250
应用技术：直流溅射+离子源（可选）
设备材质：不锈钢
设备腔体尺寸：Φ1250* H1250mm
腔室类型：垂直气缸，1门
转架系统：行星体公自转，公转
镀膜材料：金，铝，银，铜，铬，不锈钢，镍，钛
阴极：平面溅射阴极， 可选常规圆柱阴极（根据涂覆工艺要求）
MFC： 2~4/5路
程序操控系统：PLC（可编程逻辑控制器）+ IPC
抽真空系统： SV300B – 1台（莱宝）300m³/ hr
WAU1001罗茨泵– 1台，1000m³/ hr
维持泵– 1台，每小时60m³
涡轮分子泵：– 2台，3500L / S
电源：
偏压电源：1 * 24 KW
脉冲磁控直流溅射功率：12KW
线性离子源：5KW
安全系统：多种安全联锁装置，以保护操作员和设备
冷却循环：冷却水
加热：加热器，9KW
工作环境：电力供应 380V/3相/ 50HZ
占地面积：L4000 * W3500 * H3500mm
总重量：6.0吨
循环时间：30〜40分钟（取决于基材材料，基材几何形状和工作环境条件）
最大功率（估计）：70KW
平均耗电量（估计）：30KW
